Composizione principale
Composizione | Contenuti | N. CAS | CE n. |
Acqua pura | 90-92% | 7732-18-5 | 231-791-2 |
Carbonato di sodio | 1,0-3,0% | 5968-11-6 | 207-838-8 |
Composto acrilico ramificato a blocchi | 1,0-2,0% | / | / |
Tensioattivo | 1,0-1,5% | 25155-30-0 | 246-680-4 |
Acido conservante | 0,1%-1,5% | 137-40-6 | 205-290-4 |
Caratteristiche
1. Elevato livello di protezione ambientale: l'incisione selettiva può essere ottenuta senza l'uso di basi organiche come TMAH;
2. Basso costo di produzione: rispetto al comune pretrattamento con acido fluoridrico/acido nitrico presente sul mercato, il costo di produzione è notevolmente ridotto;
3. Elevata efficienza di incisione: rispetto al processo con batteria Perc, l'efficienza di conversione è aumentata di oltre l'1,2%;
Dimensione del wafer | Aspetto | Conversione fotoelettrica | Vita |
210 | La superficie di incisione è normale e la pellicola positiva non presenta corrosione. | 24,4%~24,6% | 240+ |
Parametri tecnici
/L Prima erogazione del liquido
| /L Infusione liquida | /L Intervallo-drenaggio | Temperatura/gradi | Tempo di reazione/secondo | |
48%KOH | 8~10 | 0,3~0,45 | 5~7 | 63~64 | 100~200 |
Additivo JH2570 | 2.0~4.0 | 0,18~0,21 | |||
Acqua pura | 440.0 | / |
Queste proprietà possono variare a seconda del wafer monocristallino, del processo, del lotto e delle dimensioni.
Applicazioni
1、Questo prodotto ha lo scopo di rimuovere il rivestimento di silicio amorfo dalle celle Topcon;
2、 Adatto per celle monocristalline con specifiche 210, 186, 166 e 158.
caratteristiche del prodotto
NO.
| Parametro
| Principali parametri e indicatori di progetto |
1 | Colore, forma | Liquido trasparente da incolore a giallo chiaro |
2 | valore del ph | 7.0-10.0 |
3 | densità | 1,05-1,5 g/ml |
4 | Condizioni di archiviazione | Conservare a temperatura ambiente lontano dalla luce |